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2SK系列不銹鋼兩級水環(huán)真空泵

簡要描述:2SK系列不銹鋼兩級水環(huán)真空泵具有真空度高、在高真空區(qū)抽速大等特點;結(jié)構(gòu)緊湊、維修方便;應用范圍廣泛;主要用水作為工作介質(zhì),維護費用低;可以在較為惡劣的環(huán)境下工作。

  • 產(chǎn)品型號:2SK系列
  • 更新時間:2023-10-25
  • 訪  問  量:4163

詳細介紹

2SK系列兩級水環(huán)真空泵和2SK-P1系列兩級水環(huán)真空泵—大氣噴射泵機組被用于抽取空氣和其它、不溶于水、不含有固體顆粒的氣體以便在密閉容器中獲得較高真空。它被廣泛應用于食品、編織化工、醫(yī)藥和冶金工業(yè)及電子領(lǐng)域的真空蒸發(fā)、真空濃縮、真空回潮、真空浸漬、真空干燥及真空冶煉等。具有真空度高、在高真空區(qū)抽速大及結(jié)構(gòu)緊湊、工作可靠、維修方便等特點。

2SK系列適用于吸入壓力低于-0.08MPa的工況條件。2SK-P1系列適用于吸入壓力低于-0.096MPa的工況條件,在配用大氣泵時,極限真空度可達-750mmHg。工作真空范圍為-0.03---0.08MPa。

2SK系列兩級水環(huán)真空泵-主要特點: 
    2SK系列兩級水環(huán)真空泵,具有真空度高、在高真空區(qū)抽速大等特點; 結(jié)構(gòu)緊湊、維修方便; 應用范圍廣泛; 主要用水作為工作介質(zhì),維護費用低; 可以在較為惡劣的環(huán)境下工作。

2SK系列兩級水環(huán)真空泵-性能參數(shù)

型號抽氣量(m3/min)極限壓力功率(kw)轉(zhuǎn)速(r.p.m) 供水量(L/min)吸排氣口徑

吸入壓力為-0.093MPa時,不小于

mmHg

MPa

2SK-1.51.50.9-730-0.0974144010~15φ40
2SK-332-735-0.0987.5144015~20φ40
2SK-664-735-0.09815146025~35φ70
2SK-12128-735-0.0982297040~50φ100
2SK-302014-735-0.0984574060~80φ125
2SK-303020-735-0.0985574070~90φ125


2SK-P1系列兩級水環(huán)真空泵 -大氣噴射泵機組

型號抽氣量(m3/min)極限壓力功率(kw)轉(zhuǎn)速(r.p.m) 供水量(L/min)

泵體材質(zhì)

吸氣壓力為-0.093MPa(-700mmHg)時吸氣壓力為-0.097MPa(-700mmHg)時吸氣壓力為-0.099MPa(-700mmHg)時mmHgMPa
2SK-1.5P11.050.90.75-750-0.0994144010~15不銹鋼
2SK-3P12.11.81.5-750-0.0997.5144015~20不銹鋼
2SK-6P14.23.63-750-0.09915146025~35不銹鋼
2SK-12P18.47.26-750-0.0992297040~50不銹鋼
2SK-20P1141210-750-0.0994574060~80不銹鋼
2SK-30P1211815-750-0.0995574070~90不銹鋼

注:
1、表內(nèi)數(shù)值是在下列條件下得出:①大氣壓力0.1013MPa(760mmHg);②進水溫度15℃;③吸入空氣溫度20℃;④空氣相對溫度70%。
2、供水量為吸入壓力-0.05MPa(-400mmHg)時的數(shù)值,極限真空時可大于此值
3、性能允差±10%。

2SK系列新型水環(huán)真空泵及機組,材質(zhì)可選用304、316不銹鋼或玻璃鋼,該材質(zhì)具有耐腐蝕范圍廣、體積小、重量輕、結(jié)構(gòu)緊湊、高效節(jié)能、安裝維修方便、運行安全可靠等特點。 2SK系列新型水環(huán)真空泵及機組,可用于抽吸或壓送空氣和其它不溶于水、不含固體顆粒的腐蝕性氣體,也可以用于抽送各種不含懸浮顆粒或結(jié)晶的有機或無機酸液,以便在密閉容器中形成一定的負壓,滿足工藝流程的要求。 使用2SK水環(huán)真空泵做機組,它不僅可以用來抽除一般的氣體,還可以抽吸含有水分及少量灰塵的氣體,抽吸其它無可凝性及的氣體。它與一般機械真空泵如(往復泵)和水環(huán)真空泵相比,具有不怕油污染,不怕水蒸氣及微塵,范圍廣,極限真空度高(可抽到0.5pa)以及在較高真空度工況下抽速大的優(yōu)點,是化工、食品、輕紡、真空冶煉、鋼液脫氣、大型空間模擬實驗中的動態(tài)真空的獲得,電力電容器、變壓器真空浸漬處理,燈炮自動生產(chǎn)線上的排氣,保溫瓶膽連續(xù)排氣,真空鍍膜設備中的預抽,鎂還原過程中的抽氣,單晶硅提煉過程中的出氣等等。

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